三月 AP 批次系列

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概述

AP 系列等离子处理系统适用于多种应用，包括等离子清洗、表面活化和附着力改进。这些系统服务于半导体制造、微电子封装和组装以及医疗和生命科学设备生产等行业。 AP 系列包括四个批量等离子体处理系统，提供小型、中型和大型真空室选项，以满足从研发环境到各种生产水平的客户需求。

等离子处理系统的特点和优点

● 带触摸屏界面的PLC控制器提供直观的图形显示和实时过程监控

● 灵活的货架设计允许以直接或下游等离子模式处理各种零件载体

● 具有自动阻抗匹配功能的 13.56 MHz 射频发生器可确保无与伦比的过程再现性

● 专有软件控制系统生成用于统计过程控制（SPC）的过程和生产数据

● 批量式操作；每个单元都是完全独立的，并且需要最小的占地面积

● 泵、腔室、控制电子设备和 13.56 MHz 射频发生器均安装在一个外壳内

等离子处理系统模型和配置

AP-600 和 AP-300 台式等离子体处理系统：AP-300 和 AP-600 等离子处理系统是完全独立的台式装置，需要最小的工作台空间。系统底盘容纳等离子体室、控制电子设备、13.56 MHz 射频发生器和自动室匹配网络（仅真空泵位于外部）。通过互锁门或可拆卸面板提供维护通道。等离子体室支持多达七个可拆卸和可调节的供电或接地架子，以容纳各种零件、组件和载体，包括料盒、托盘和晶圆舟。真空等离子处理系统可容纳多种工艺气体，包括氩气、氧气、氢气、氦气和氟化气体。两种型号均标配两 (2) 个质量流量控制器，以实现最佳气体控制，还可选择两 (2) 个附加单元（总共最多四个）。方便的公用设施连接有助于验证过程中所需的定期校准。

AP-1000 等离子体处理系统：AP-1000 平台允许完全正面访问，方便所有内部组件的操作和维护。该泵安装在脚轮上，方便拆卸。等离子室由 11 号不锈钢制成，配有铝制固定装置，确保卓越的耐用性。该室具有多个可拆卸和可调节的架子，可容纳各种零件载体，包括料盒、托盘、晶圆和晶圆舟。 AP-1000 等离子处理系统配备可选的 HTP（高吞吐量）搁板，将 AP-1000 平台的可靠性和工艺质量与 Nordson MARCH 独特搁板设计的成熟优势相结合。 AP-1000 HTP 优化了射频等离子体中反应离子的使用，提高了处理均匀性，同时缩短了循环时间。 AP-1000 HTP 系统支持一系列工艺气体，例如氩气、氢气和氦气。它标配四个气体质量流量控制器，以确保最佳的气体控制。带槽弹匣垂直放置在腔室内。

此外，开槽弹匣可以垂直放置在腔室内。通常，每个盒至少容纳 20 个引线框架。 AP-1000 等离子体室最多可容纳 12 个弹匣，具体取决于弹匣尺寸。